中国光刻机传来好消息，上海微电子研发成功，完全不受美国影响

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从去年的5月开始美国就开始对我们进行不断的限制和打压，主要是针对我们最薄弱的半导体领域进行的打压，我们在芯片以及半导体材料上和国外企业有比较大的差距，所以我们最近几年才开始加大我们自己光刻机的研发速度。

很多人都会疑惑美国为什么要一直不断打压我国的芯片技术，其实如今到了21世纪，美国在芯片技术相比较叫中国还是有一定的差距的，国内由于芯片事也起步较晚，而且一直长期被国外所压制，根本不能有较大发展，所以一直处于比较落后的水平，而如今，随着科技的不断进步，国内开始涌现出许多优秀的半导体公司，让目前的情况开始有所好转，但这时候美国就急了，一定要打压。

在这当中，华为的芯片之前一直都是有世界第一大代工厂台积电供应的，不过在美国宣布要对美国实行禁令了之后，台积电就开始不再和华为进行合作。因为台积电其中的关键设备就是有美国的核心技术，当然也就会受到美国的影响，如今华为就会在芯片上最重要的问题就是要重新选择供应商来代替台积电还要保证产量，一旦解决，华为的芯片问题就能得到解决，那美国的压制就没有什么明显的作用了。

在目前来说，华为的芯片在国内并没有可以代替的厂商，毕竟我国并不像台积电拥有高端光刻机，在这些方面我国的技术都还有所欠缺，这也是为什么我国不能像国外的其他厂商那样在芯片技术上有所发展，光刻机有很关键的作用。光刻机作为芯片生产中必不可少的一个机器设备，如果没有光刻机那么我们也无法生产出芯片，我国芯片之所以一直在芯片上没有很大的突破，就是因为光刻店在其中起着很重要的作用。

不过近些年来，我国的国产光刻机的水平与国际顶尖的相比还有很大的差距，不过已经相比较之前，有很大的进步了。不过，近日我国的光刻机开始传来好消息，这就意味着如今我国的芯片也将会有巨大的提升。

其实我国并不是不能制作光刻机，只是由于起步晚而且一直被压制着，无法生产出高端的光刻机，只能生产一些中低端领域的光刻机，这一直是之前所有的情况。不过近期据国内媒体报道，我国的上海微电子设备有限公司传来振奋人心的好消息，他们已经攻克了28nm的光刻机技术，预计将在2021年正式交付使用，这无疑是一大突破性的进步，那么这28nm到底是什么概念的呢，如今世界上最先进的光刻机已经达到5nm的水平，而我国刚达到28nm，可要知道，我国是完全通过自己独立研究出来的，而ASML公司之所以在光刻机领域里领先，那也是因为他们集合了美国和欧洲的力量才完成的。

我们现在仅仅只用了几年的时间就将光刻机提升到了28nm，虽然未来的路还是很漫长，但是我们依然有信心走下去。