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上海微电子

公司简介

上海微电子装备（集团）股份有限公司 (简称SMEE) 成立于2002年3月，是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技技术公司。公司主要致力于大规模工业生产的中高端投影光刻机研发、生产、销售与服务。公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

核心人物简介

贺荣明

董事长兼总经理

贺荣明，上海微电子创始人&董事长兼总经理。先后作为项目负责人承担国家863重大科技专项、国家科技支撑计划项目、国家02科技重大专项等任务，他通过对光刻机核心技术的攻克，带领上微成为世界上继欧洲和日本3家光刻机公司之后，少数掌握高端光刻机的系统设计与系统集成测试技术的公司，目前，部分光刻机产品已形成量产供货能力，综合水平达到世界先进水平。

主要产品

光刻机、曝光机、缺陷检测设备、激光退火设备

行业地位

目前市场上主要的光刻机供应商有荷兰的ASML、日本的NIKON和CANON，以及中国大陆的上海微电子装备(SMEE)。

根据业界的实际情况，英特尔和台积电一直到7nm工艺节点都依然使用浸入式ArF的光刻设备。但是对于下一代的工艺，则必须采用EUV光源的设备了。目前全球只有ASML一家能够提供波长为13.5nm的EUV光刻设备。毫无疑问，未来5nm和3nm的工艺，必然是EUV一家的天下。事实上，三星在7nm节点上便已经采用了EUV光刻设备，而中芯国际最近也订购了一台EUV用于7nm工艺的研发。

目前其它几家都没有正式发布的EUV级别产品能够和ASML一较高下，只有Nikon NRS系列有ArF浸入式光刻机，参数指标上勉强可以达到ASML高端产品的水准。但是从业界的反馈来看，Nikon高端系列实际性能相比ASML同档次设备仍有不小差距，尤其是在套刻精度上远远达不到官方宣称水准，以至于Nikon光刻设备在售价不到ASML同类产品一半的前提下，依旧销售不佳。

Canon早已在很多年前便放弃了在高端光刻机上的竞争，目前产品主要集中在面板等领域。目前他们还在销售的集成电路光刻设备在指标标上只相当于ASML的低端产品PAS5500系列。Nikon光刻机唯一剩下的优势就是同类机型价格不到ASML的一半。但给予Nikon致命一击的还是英特尔，在新制程中停止采购Nikon的光刻机，目前，所有主流半导体产线中只有少数低阶老机龄的光刻机还是Nikon或者Canon的。

上海微电子装备作为国内光刻设备的龙头企业，由于起步较晚且技术积累薄弱，目前最先进的光刻设备也只能提供最高90mn的工艺技术。单从指标上看，基本也和ASML的低端产品PAS5500系列属于同一档次。

ASML一家独占鳌头，成为唯一的一线供应商；Nikon凭借多年技术积累，勉强保住二线供应商地位；而Canon只能屈居三线；SMEE作为后起之秀，暂时勉强也挤入三线的档次

竞争对手

国际：AMSL、Canon、Nikon

国内：合肥芯硕半导体有限公司、无锡影速半导体科技有限公司