我们离高端光刻机到底有多远？启尔奋斗十八年，仍旧斗不过ASML

提起芯片，很多人都会联想到光刻机，就因为这个机器，我国芯片企业被卡的死死的，至今还在苦苦钻研，那我们离高端光刻机到底有多远呢？

要知道，我国为了追赶上最先进的芯片制程，多年来一直在光刻机方面发力，尤其是上海微电子和启尔机电，它们一直致力于做出28nm的浸没式光刻机，但由于众所周知的原因，我们必须从零开始，这就要面临光刻机的四大技术难题。

分别是光刻机的曝光光学系统，激光光源，工件台，以及浸液系统。

前三关都被我们克服了，尤其是工件台，本来我们的目的是造出90nm光刻机需要的工件台，但最后却连针对28nm到65nm光刻机配套的双工件台也造出来了。

正是由于克服了这三项技术难关，我国的上海微电子才能让90nm光刻机变成量产机，也才能自主生产45nm、32nm，甚至是28nm的芯片。

不过，上海微电子到了这一步也就停滞了，因为要生产更先进的芯片，我们就需要克服第四大难关——浸液系统。

浸液系统是ARFi光刻机的核心系统之一，目前，DUV光刻机主要分为KRF、ARF和ARFi，这三者的波长分别是248纳米、193nm和134nm，一般而言波长越短越先进。

也就是说，只要我们可以攻下浸液系统，那么我们离世界上最先进的ARFi光刻机也就不远了。

但这第四个难关，是个难啃的骨头。

启尔机电这些年一直在钻研相关技术，但一直没能取得进展，要知道启尔机电开始涉足光刻机时，他们还是浙大的一个叫启尔的团队，而到了现在，孩子都高中毕业了。

除了技术难题，供应链也是一大难题。

要知道这一台光刻机，涉及的零件几乎近10万，就算是ASML也没可能自己独立生产一台，而是要靠着背后近5000家供应链的整合。

不过目前，我国已经有不少企业开始了钻研之路，比如启尔机电专注于技术，而像上海微电子、至纯科技则专注于供应链，这些年上海微电子积极的与各方建立合作，至纯科技也在这段时间完成了28nm清洗机的设备认证。

可以说，在高端光刻机这方面，我国是技术与供应链齐头并进。一旦攻克技术难关，上海微电子就能立刻打通国产光刻机的供应链，快速实现量产不是问题。

不过，28nm的浸没式光刻机只能生产14纳米的芯片，如果经过改造，可能也能生产7纳米的，但想更高，却是有点不可能了。

但这也不能阻挡我们继续研究芯片的脚步，西方国家的制裁，大厂的垄断都教会我们，如果不能自己掌握尖端技术，那么在未来就只能受制于人，永远没有超越的可能。