半导体光刻胶被国外垄断90%，我国新型光刻胶取得重大突破

我们总说中国在半导体领域被卡住脖子，但是大家不知道的是，真正被卡得非常严重的其实就是光刻胶，目前全球光刻胶材料几乎被国外所垄断，垄断市场份额甚至高达90%，连台积电都要从日美进口才可以生产芯片，可见光刻胶是有多么重要，不过好消息是，如今我国在该领域终于取得重大突破，研发出一种新型光刻胶，这也将有利于我国半导体的产业发展，同时也势必会改变被国外垄断90%的尴尬局面。

光刻胶是制造芯片所必须要用到的半导体材料，目前我国已经支持14nm工艺的光刻胶，但是有一种新型光刻胶我国却一直处于空白，它甚至长期被国外所垄断，不过还好我国已经成功攻克这方面的难题，甚至已经可以做到直接取代国外的光刻胶产品，那么如此重要的科研成果，究竟是谁突破的呢？这对我国半导体产业又有着什么好处和意义呢？

说到光刻胶就不得不提到一个人，而这个人就是滕超，也是深圳市职业技术学院特聘教授，正是他攻克了我国在半导体领域的科技难题，滕超在南京大学毕业后，又在南京大学高分子系攻读博士学位，并且于2012年成功获得高分子化学与物理学博士学位，就在获得学位后不久，滕超意识到我国在光电显示和半导体产业面临卡脖子的现状，所以不断在该领域进行研究，最终滕超也成功在LCD间隔物微球项目取得突破，研发出一种高精度的微球材料，这种材料不仅成功打破了日本在该领域长达几十年的垄断，更是让国内主要平板显示制造企业都用上了这种材料，而且更加重要的是，滕超还是中国首个研发出全面通过平板显示行业测试并具备量产能力的产品，这也让滕超在科技领域获得了不小的名气。

特别是2015年，滕超又开始研发另一项被国外卡脖子的关键材料，也就是刚才我们所说的光刻胶，这种材料一直被美日所垄断，严重影响到我国半导体产业的发展，我们都知道，不管是日本还是美国，动不动就找些理由对我国企业进行限制，比如前不久日本那边就有传出要断供光刻胶的消息，只不过后来发现断供对他们没有好处，所以后来才不了了之，再比如美国也表示过，如果他们不给台积电提供半导体材料，那么台积电基本就是一个废厂，可见光刻胶的重要性已经不言而喻，滕超也正是看到了我国在半导体领域被卡脖子的现状，才开始对其研究并希望能早日打破国外技术垄断和封锁。

果然功夫不负有心人，据光明日报最新报道，在滕超和其团队的刻苦专研下，他们已经成功研制出一种光敏聚酰亚胺光刻胶，这种光刻胶不仅攻克了我国在半导体领域被卡脖子的产业痛点，更是使得我国在芯片制造供应链上的重要原材料实现了自主可控，确实如此，通过晶圆厂的测试验证发现，其性能已经完全可以替代国外进口的光刻胶，所谓的光敏聚酰亚胺，其实就是一类高分子链上兼有亚胺环以及光敏基因，它具有优异的热稳定性，是一种机械性能和感光性能良好的有机材料，相比传统的光刻胶会拥有更好的介电性能，并且还能够大大的缩短工序，从而提升我国半导体整体生产水平。

不得不说，学以致用，产业报国，滕超和他的导师一样，帮助我国攻克了一个又一个产业痛点，无论是液晶取向剂、硬化绝缘层材料、电声音质增强材料，都是滕超和团队中几十名博士所取得的成果，一直以来我们在很多领域都被卡住脖子，然而如今则不同了，我国不仅出现了众多像滕超这样的科研工作者，更是出现了一大批意识到国家要实现自主研发的远大目标。

比如滕超就坚定地说，必须要把关键核心技术掌握在自己手中，记得上次说类似的话还是我国科学家杨振宁，他称科学虽然无国界，但是科学家是有国籍的，所以核心技术必须掌握在自己手里，早在我国对半导体还不是很重视的时候，杨振宁就呼吁我国要突破半导体核心技术，如今国内科研环境正如杨老所愿，正在一步一步朝着希望前行，虽然来得稍晚了一些，但是相信最终掌握更多核心技术的终究还是我们自己。对此，您怎么看？欢迎在评论区留言讨论。