锦上添花！国产光刻机实现新突破，中芯国际“胜券在握”了

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自从芯片被美国多次修改规则后，全球缺芯状况就越来越严重，世界大多数半导体企业都受到了影响，就连台积电、英特尔、三星、高通都逃不过。据了解，为了挽回这次的损失，台积电投资了超过1000亿美元建厂发展，三星更是投资了2000多亿美元。除了国外半导体巨头有动作之外，国内半导体巨头中芯国际也投资了1700亿人民币建厂。如今好消息再次传来，国产光刻机获得突破，中芯国际基本胜券在握了。

我们都知道，芯片分为高纳米芯片和低纳米芯片，在我们的印象中，低纳米芯片就是7nm、5nm、2nm芯片，而高纳米芯片就是14nm、28nm芯片。大家是否都认为，如今世界上最想要的就是低纳米芯片，其实这是一个错误的想法。实际上，世界上主流芯片仍然是高纳米芯片，比如汽车、智能空调等设备采用的都是高纳米芯片，只有智能手机、笔记本电脑等产品才会采用低纳米芯片。

在全球大多数先进芯片制造商中，三星、台积电等都将更多的精力放在了低纳米芯片的制造上，而建造工厂主要为的也就是能够扩大低纳米芯片的产能。但是中芯国际却与众不同，虽然拥有生产7nm芯片的技术，但是却仍然选择去扩大28nm、14nm芯片产能，并且此次在天津投资了520亿人民币建造工厂，就是10nm晶圆芯片工厂。要知道，早在几年前，台积电刘德音就表示28nm芯片需求已经饱和。可是现在看来，28nm、14nm芯片市场仍然有很大的潜力。

在全球缺芯的问题之下，各大企业对28nm芯片需求非常急切，而中芯国际的做法则非常符合各大企业的胃口，在今年上半年，中芯国际的营收达到了259亿美元，同比去年增长了53%，这一营收离不开中芯国际的正确决策。然而如今，国产半导体迎来的重大突破，让中芯国际以及中国半导体企业犹如锦上添花。那就是中国光刻机又迎来了新突破，上海方面宣布国产90nm光刻机实现了突破，短短半年时间，中国光刻机就又迎来了突破，可见我们发展光刻机技术是非常快的。

要知道，90nm光刻机在经过多次工艺制程之下，已经可以将芯片制程缩小到22nm。如今，中芯国际所生产的28nm芯片已经与台积电三星生产的经过了比较，中芯国际的芯片已经达到了同水平。有意思的是，中芯国际所生产芯片的设备大多数都是来自于国内，这说明我们不但成本更低，技术层面也与发达国家相差不远。国内半导体正在飞速发展，中芯国际就如同我国的先锋者一般，默默在前线与国外一线品牌进行斗争。大家觉得中芯国际在今后能否成为国际巨头呢？