中国国产光刻机与芯片产业链趋势

 

上海刚刚在2022年9月14号，官宣了最新芯片产业链的研发成果，芯片14纳米量产和芯片产业链核心设备和硅片材料纯国产突破。

中芯国际上海

芯片掩膜

科普一下90nm光刻机的实质性意义，90纳米光刻机经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光可以达到22nm的芯片，甚至多次曝光可以得到7纳米芯片，但是曝光次数越多，芯片的良品率就越低，所以一般情况下是量产能够控制在28nm的商业化水平。

上海微电子2021年底就宣称即将交付28nm光刻机，28nm光刻机经过多重曝光能够生产14nm芯片，在极限状态下甚至可以生产10nm的芯片，这都是纯国产光刻机。

2021年中芯国际向ASML购买了价值11亿美元的DUV光刻机，据说今年2022一季度ASML供货了23台给中国，宣传量产的14nm工艺芯片应该就是利用这批进口的DUV光刻机，DUV光刻机又称深紫外线光刻机，主要用于10～130nm光刻机，相对于EUV光刻机，DUV光刻机是ASML公司二线的产品。

所以现在，国内芯片厂商目前被制裁的如华为依然要等下一阶段国产光刻机突破才能有14纳米甚至5纳米芯片商业化量产可能。

当然，民用商业化芯片制造符合可竞争的成本控制才有未来，对军工体系需求这种多次曝光成本几乎可以忽略不计，那些不是民用几千块的商品，而是几万几十万甚至几千万几百亿的国之定海神针和安全防护罩。