国产EUV光刻机还有多久？

 

雄关漫道真如铁，而今迈步从头越

自华为被美国技术管控，切断其芯片代工生产之后，光刻机就成为国人心中的痛！

多少次和朋友聊天提起这个话题，就想问什么时候，国产EUV光刻机才能横空出世！那一句句的叹息之后，剩下只是无奈的等待。

那究竟什么时候国产EUV光刻机才会出现那？

目前，国内能够研发光刻机的企业有三家，中国电科、上海微电和长春光机所。

上海微电子、中国电科在发展DUV光刻机，上海微电子已经推出28纳米DUV光刻机，正在研发14纳米DUV光刻机技术。

长春光机所主攻克EUV光刻机，其是国家02专项的主要科研单位，长春光机所光学实力非常强，代表我国最高技术水平，如精密光栅制造水平，光学设计能力，光学镜片或镜头的加工和制备，半导体激光器研发，图像处理，卫星发射等等。

目前，国产光刻机研发处于怎么的状态？

首先，我们先了解下光刻机的核心组成，光刻机，由光源系统、物镜系统、EDA工程、双工件台系统四大核心部件组成。

一、双工件台系统

华卓精科用4年的时间，攻克双工件台系统，目前，双工件台系统已经在28nm光刻机上使用，在为7nm光刻机研发积累经验。

二、光源系统

光源系统，中科院高能物理研究所已经攻克中国首台高能同步辐射光源，已经处于测试阶段 。

三、EDA工程软件系统

EDA被称为半导体皇冠上的明珠,在整个半导体产业链中起着举足轻重的用。目前国内EDA主要由国际三大巨头垄断。

但是近年国内华大九天、芯愿景、芯和半导体、概论电子等领先本土厂商，已在EDA软件上突破技术壁垒，需要设计数据的积累。将在EUV光刻机的研发中起到积极作用。

四、物镜系统

物镜系统是EUV光刻机的核心系统，因规格有限性的硅基芯片与摩尔定律规定下的性能提升、硅晶体数量提升之间的矛盾，对光刻机设备制程要求更高，物镜成为决定光刻机制程精度的决定性的因素，其重要性不用多说。

光刻机的物镜系统是非常复杂的，从反射、折射到全反射一层一层，将优化光的分辨率，最终达到可清晰投影的光斑。

随着纳米数在提高，光刻机的分辨能力更高，需要看清的尺寸更小，若没有高技术的物镜，就无法曝光出清晰的电路图，进而会降低制程良率和芯片的性能。

2021年，长春光机所已经突破光刻机核心部件光学投影物镜制造关键技术，实现了中国超精密光学技术的跨越式发展。

预测长春光机所研发的全折射式光学投影镜头，最高可以用于7~5nm制程，轻松完成14~10nm制程没有问题。

物镜系统核心的攻克，至此光刻机的四大核心项目被基本攻坚，意味着我们距离拥有自己高精尖光刻机的那一天已经越来越近。

总之，看到核心技术已经攻克，朋友们你们觉得EUV光刻机离我们还很远吗？大家可以在评论区讨论。

文/文旅