6亿经费用10年，研发中国顶尖的光刻机，上海微电子怎么做到的

 

了解更多科技资讯尽在圈聊科技。

今天跟大家聊一聊：中国在光刻机的制造上也曾一度接近美国，但由于种种原因导致了项目石沉大海，而现在中国一企业，在10年的时间里仅有6亿的研发费用，却造出了国内最先进的光刻机，打破了发达国家的垄断。成为了中国半导体的救星。

光刻机作为目前最复杂的工业设备，其总重达到了180吨，其内部的零部件数量也超过了10万个，3000多根的线路分布其中，超过两公里的软管连接其中的各个部件。受限于其复杂性，目前还没有任何一个国家能够独立生产出光刻机。

荷兰的ASML公司虽然能够制造出最为顶尖的光刻机，但与其说是生产还不如说是一个组装工厂，超过90%的零部件以及核心工艺来自于世界各地，而其中美国的技术又占据了很大一部分，这也是为何中国得不到荷兰尖端光刻机的主要因素。

而早在1965年的时候，中国当时就已经研发出了光刻机，是一台65型的接触式光刻机，由于当时半导体领域技术应用的并不广泛，所以国家就没有花太多的精力在这方面的研究上，缺少的相应的经费，也让国产光刻机研发变得异常的困难。不过科研人员还是坚持了下来，曾经的技术也一度接近于美国。

在此之后中间出现了很多的小插曲，改革开放以后，海外先进的工业设备涌入中国，也滋生了国人懒惰的心理，很多企业也拥有了造不如买的思想中去，为了短期的利益，所有的工业设备都选择了国外进口，也确实让中国的制造业得到了一定的提升，很多企业家也都赚的盆满钵满。

但此后再也没有企业愿意从事对于尖端光刻机的研发了，国产光刻机的研发也暂告一段落，当我们重新拾起这个项目的时候，却发现我们已经很难再赶上欧美国家的进度了。

现在也为当初目光短浅的行为付出了惨重的代价，随着科技的发展，芯片的地位也越来越高了，是智能设备缺一不可的存在，而光刻机就是制造尖端芯片的核心设备，缺少了光刻机也让中国在芯片领域处处受限制，从而也就有了华为事件的诞生。

不过好在仍然有中国的企业意识到了问题所在，在十多年的时间里，默默从事着光刻机的研发，这家企业鲜有人知，目前已经实现了90nm光刻机的量产，而它就是中国唯一的光刻巨头上海微电子。虽然上海微电子在技术上，仍然和荷兰的ASML公司存在着很大的差距，但随着中低端光刻机的技术突破，也意味着我们成功打破了西方国家的垄断，对于国产光刻机的发展未来可期。

而值得一提的是，之前上海微电子并不被人看好，这也导致了没有人愿意投资这样一家企业，在十年的时间里他们的研发经费只有6亿，在面临技术落后以及资金短缺的双重压力之下，他们却展现出了顽强的一面，在这么短的时间内能够取得这样的突破，也实属不易。

上海微电子的成立时间还要追溯到2002年，成立之初他们的目的性就很明确，就是朝着光刻机去的，经过7年时间的刻苦专研，终于在2009年的时候，交付了一台封装的光刻机产品，在没有任何技术经验的情况下，他们只能通过进口国外的零部件，照着ASML光刻机的模样，一步一步的拼接出来，最终也如愿以偿拼装出了首台国产光刻机，他们的每一步都走的异常的艰难。

面对这样的困境，上海微电子坚持着下来，目前在光刻机领域也已经拿到了3200多项的专利，也有了相应的技术经验，目前上海微电子也已经攻克了28nm光刻机的制造工艺，也将于明年正式交付。目前国家已经高度重视半导体领域的发展，随着更多的人才被培养出来，也将为上海微电子注入更多新鲜的血液，在研发进度上也将进一步加快。

根据相关消息称，在上海微电子实现28nm光刻机的国产化之后，在提升相应的制造工艺之后，也是能够实现7nm芯片的制造的。但整体而言，中国在光刻机领域还有很长的路要走，目前在光刻机核心部件主要分为三个部分，分别为极紫外光源、双工件台以及光学镜头，目前我们仅能实现双工件台技术的突破，在其它两项上和国外的技术还是差别很大的。

好在目前中国的半导体企业，也意识到了自主创新的重要性，在国家的带领下，相信很快就能解决半导体领域所面临的困境，华为的困境也将随之解除，对此你们有什么看法？