终于来了!外媒点名上海微电子：年底推出28nm工艺国产DUV光刻机

【6月12日讯】相信大家都知道，缺芯少魂一直都是我国科技产业的痛点，尤其是在技术落后最多的芯片制造领域，高端光刻机、光刻胶等核心设备、材料等，依旧需要依赖于外国进口，这也成为了限制国产芯片制造技术前进道路上的绊脚石，尤其是在我国芯片代工巨头—中芯国际在2018年就订购了一台高端EUV光刻机后，荷兰ASML公司就一直无法完成交付，这也是因为受到了某国限制，不能够将高端EUV光刻机售卖给我国企业，而我国企业只能够进口引进技术更落后一些的DUV光刻机；

虽然我国的光刻机巨头—上海微电子也能够生产光刻机设备，但目前已经量产的型号为SSX600，只能够实现90nm及以下工艺芯片制造，而对于28nm工艺、14nm工艺等更加高端的芯片，就必须要进口光刻机产品，所以如何解决国产光刻机的技术短板，无疑也成为了解决国产芯片制造技术被卡脖子的最佳方案；

虽然很早之前就有媒体曝光，上海微电子将会推出一台28nm工艺浸润式国产光刻机，但有关于这台28nm工艺浸润式光刻机设备一直都没有太多消息被爆出，自然也就引起了很多网友们质疑，这件事是否会不太靠谱呢？

终于在近日，外媒Verdict再次点名我国的光刻机生产制造巨头—上海微电子，明确指出：中国国产28nm DUV光刻机计划在今年年底前从上海微电子（SMEE）生产出来。 最后还提到这台光刻机设备不仅仅可以生产28nm工艺芯片，同时还可以生产制造20nm工艺得到5G芯片。

就在这一消息得到曝光以后，也有不少网友佐证了这条消息的真实性，其中还提到：年初市人大已经宣布了，年底量产，不会有多大问题。

如此看来，我们国内中高端DUV光刻机终于要来了，相信很多网友们看到这一消息之后，都会感觉到非常震惊，毕竟国产DUV光刻机诞生，绝对会让我国的芯片产业链技术再向前迈一大步，让我国在20nm工艺的芯片技术上实现全国产，同时还可以解决国内部分企业的芯片断供危机。

最后：各位小伙伴们，你们觉得上海微电子是否能够在年底推出DUV光刻机，用于生产制造20nm工艺的国产5G芯片呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！