如何看待爆料上海微电子明年将交付28nm光刻机一事？是否属实？

 

官方已经证实，上海微电子预计将于2022年交付首台28nm工艺国产沉浸式光刻机

（浦东新区金融工作局网站报道，http://www.pudong.gov.cn/shpd/department/20201123/019008001_a6c299f4-aa7d-49db-8d05-c703fab55739.htm）

上海微电子成立于2002年3月，主要从事半导体装备、泛半导体装备以及高端智能装备的设计制造销售。公司拥有国家级企业技术中心、国家技术创新示范企业等多项荣誉称号。截至2020年3月，公司直接持有各类专利及专利申请超过3200项。

上海微电子是国内唯一从事研发、生产以及销售高端光刻机的公司，也是全球第四家生产IC前道光刻机的公司，公司预计将于2022年交付首台28nm工艺国产沉浸式光刻机，国产光刻机将从此前的90nm制程一举突破到28nm制程。公司在中端先进封装光刻机和LED光刻机领域技术领先，先进封装光刻机国内市场占有率高达80%、全球市场占有率达40%，LED光刻机市场占有率第一。

评论：这是中美贸易战以后唯一官方发布的关于国产28纳米制程光刻机的确切进度消息。2022年交付的话也还可以了，2020年上半年是关键组件交货阶段（如光源、工件台），年底应该是原型机出厂阶段。

以上是2020年12月1日更新。

以下是2020年9月20日的原回答：

官方宣传28nm最早的文章在这里：http://topic.cena.com.cn/2015-12/03/content_308634.htm《叶甜春：限制一些地方以政绩工程思维引进集成电路项目》 叶甜春是国家科技重大专项极大规模集成电路制造技术及成套工艺（02专项）的技术总师。他提到：在02专项的推动下，国产装备实现了从无到有的突破，总体水平达到28纳米水平。注意这说的是国产光刻机，不是芯片制造工艺，时间是2015年12月。

接下来是这一篇：http://www.cnepo.com.cn/index.php?id=1892《02专项高NA浸没光学系统关键技术研究项目顺利通过专项任务内部验收》时间是2018年1月。国科精密是长春光机所成立的负责光刻机物镜研制的商业化公司。先研制了一套面向90nm节点的NA0.75 ArF光刻曝光光学系统工程样机练练手，因为DUV干式光刻机和浸没式光刻机的光源是相同的（ArF，氟化氩），单从光源上分类，属于同一代产品，技术上有相通性。同时也属于90nm光刻机国产化项目的一部分。上海微电子的90nm光刻机最早2007年就已经下线了，但当时的关键子系统是从国外进口的，完全国产化是在2017年底。文章中提到的这个练手项目就是最后一环。其实2017年底这个节点是很重要的，就相当于航空工业里歼-10定型，这时已经构建了完整的研发体系和人才队伍，先进战斗机具备了腾飞的基础。后面还有：全力做好28nm节点ArF光刻机曝光光学系统研制，这就进一步明确了上海微电子的下一个产品是28nm光刻机。

下面说说28nm光刻机的进度。先看光刻机的结构：

光刻机的核心部件包括光源、照明系统、物镜、工件台。其中光源和照明系统相对容易，物镜和工件台最关键。物镜最复杂，难度很大，在90nm国产化项目中最后完成，可见是制约我国光刻机技术提高的瓶颈。工件台的难度也很大，对定位精度的要求极其变态，而且对浸没式光刻机而言要在水里工作。不过这属于高端机床通用技术，我国似乎对这一技术领域比较擅长，支持浸没式光刻的双工件台2016年初就通过了鉴定（https://news.tsinghua.edu.cn/info/1003/24206.htm）。

接下来要关注的是北京国望光学。国望光学位于北京亦庄，成立于2018年6月，继承了长春光机所和上海光机所关于光刻机光学系统的所有知识产权，收购了长春国科精密，包括整个研发团队。其实就是上海光机所掌握的照明系统和长春光机所掌握的物镜技术合并到一起，组成了完整的光刻机光学系统。从持股比例可以看出，照明系统在整个光学系统里只占很小一部分，物镜才是大头。国望光学不仅是研发，还包括生产基地，2019年底动工，计划2023年建成。

从其他光刻机配套厂商的报道中也可以看出2020年底这个时间节点，比如这个：https://news.tianyancha.com/ll_o01etzssgu.html《徐州经开区科益虹源集成电路光刻制造及服务基地项目开工》，2020年4月13日，到2020年产品将与整机单位共同完成28nm国产光刻机的集成工作，对我国集成电路产业发展具有重大意义。

总结一下就是：28nm光刻机今年底出厂是可以期待的。