上海微电子：国产光刻机的不幸，又是不幸中的万幸

 

一个大得不能再大的乌龙，吸引了很多人的关注：富士康选用上海微电子的光刻机，一次引进多达46台，而且是28nm的光刻机。

之所以能够吸引那么多人的关注，主要还是因为现在国产光刻机已经落后于世界水平，我们太想赶上世界的发展了，而发展国产光刻机需要代工厂商的大力支持，谁能想到，富士康能够在这个时候，支持了一把呢？

不过很遗憾，富士康所选的光刻机并不是大家所常说的类型，而是应用于封测阶段的IC后道光刻机。

其实，上海微电子在光刻机上的落后也只是说在IC前道工艺上，而在IC后道工序中所使用的封装光刻机方面，上海微电子做得还很不错，不但在国内封装光刻机市场上，拥有80%的市场占有率，而且还大量出口海外市场，全球占有率也很不错，达到了40%。

从这些数据上看的话，我们对富士康大量采用上海微电子的光刻机也就真的没有必要大惊小怪了，这里倒不是说这不是好事，相反，这是好事，而且也为这样的合作感到高兴，不过这里面的关键是上海微电子在封装光刻机方面的技术积累，值得我们点赞，有了技术这个前提，赢得了市场也就再正常不过了。

只是说起光刻机，一切都要落到IC前道工序中的光刻机上，这正是我们的短板所在。

从去年，甚至是从前年开始，就已经有说上海微电子已经获得了28nm前道光刻机的突破，有的说在去年底会有成功出货，后来又说会在今年年底出货，而如今2021年所剩余的时间只有短短的8天了，恐怕这几天会发生奇迹的希望也太渺小了。

倒是可以肯定的是时间肯定不会太久了，从2002年至今，这个一直让国人魂牵梦绕的关键设备，在经过了无数科研人员20年的科研攻关后，胜利的曙光是越来越亮了。

上海微电子，成立于2002年，也正是在这一年，光刻机被列入了863重大科技攻关计划，其实，上海微电子的诞生就是为了承担这一攻关计划的，而在六年后的2008年，02科技重大专项再次为该计划补充动力，艰苦奋斗、百折不挠的上海微电子人，一路将我们国家的芯片光刻技术带到了90nm，现在到了28nm，甚至是14nm，不能不说是厥功至伟。

有人将国产光刻机的发展称为一部血泪史，早在上个世纪60年代的时候，我们就有了自己的光刻机，而在70年代的时候我们就已经进行了更多前沿技术的探索，并且那个时候还没有ASML，到了1985年的时候，国产"扫描式投影光刻机"已经到达世界水平，而这一年，ASML才一岁。

但是遗憾的事情接踵而至，随着外部环境的逐渐好转，外资开始进入我们的市场，造不如买思想盛行成风，买办开始吃香，"贸工技"风潮一时盛行，这就导致了需要大量投入的光刻机研制被边缘化了。

说到这里，也必须说一下我们的缺点，我们喜欢抓重点，或许在很多方面，抓重点是个优势，但是在科研领域，尤其是基础科研领域，抓重点就会导致边缘领域被冷落，不少科研人员冷板凳坐穿，多快好省成为了主流，光刻机的落后已经难以避免。

当我们再次想到并重视国产光刻机的时候，已经是将近20年之后的2002年了，只是这一年，光刻机的天下已经大变模样，这个我们后期再细聊吧。

有人说国产芯片因为光刻机被卡脖子是我们的不幸，不幸的是我们国产光刻机技术发展到今天，有着太多的曲折与无奈，从当初的世界领先，到现在被人卡脖子。而现在让人庆幸的是幸亏我们还有上海微电子这一棵独苗，尽管经历风雨，但上海微电子还是坚持走了过来。

对于上海微电子的辛酸，这里面也只是一笔带过，今后有时间了会给大家好好聊一聊，希望这样的悲剧不会再发生，也希望国产光刻机早日雄起！